半导体工业废水的处理方法有哪些？

随着我国经济的快速发展，半导体行业的发展也在迅速上升，因此在半导体工业加工过程中不可避免的会产生含氟离子、铜离子和磷离子的污染废水。下面介绍一些半导体工业废水的处理方法。 含氟废水的处理: 将废水的pH值调节到-左右，然后加入过量的CaCl和适量的絮凝剂，就会形成沉淀，部分污泥回收成为载体，通过沉淀池的重力沉淀实现泥水分离。 在第一次反应中，可去除%的氟，并再次加入絮凝剂、氟化钙等形式的沉淀物，由污泥泵输送至污泥沉淀池，经板框脱水机压成泥饼外运，此时产生的滤液进入其他系统进一步处理。 含磷离子废水的处理: 含磷废水中的磷主要是PO-，采用的方法是化学沉淀和混凝沉淀相结合的工艺。加入CaCl，生成不溶于水的Ca(PO)OH沉淀。 调节第一个反应罐的pH值至-左右，第二个反应罐至。-第三个反应罐……(以确保羟基磷酸钙的完全生成)。该工艺简单，成本低，对含磷废水的处理有很大的适用性。 与研磨废水混合: 将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水混合，将混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤，过滤后的水泵入纳滤膜过滤装置过滤，纳滤膜过滤装置过滤后的水可直接回用。 以上是边肖整理的半导体工业废水的处理方法。后面会有更多关于污水处理的相关内容。